第182章救星来了！
临安，苏省大学微电子学院。
“通入六甲基二硅胺烷……”
“硅片脱水完成，增粘处理完成，开始旋转涂胶。”
“……”
这已经是他们不知道进行了多少次的实验流程了，除了操作员时不时进行流程汇报之外，实验内悄然无声。
数十名研发人员都静静地坚守着自己的岗位，偶尔抬头看一眼设备运行情况，以及站在操控台中间的那位老人。
“涂胶检测完毕，未发现气泡，开始曝光前烘……前烘完毕，光刻机准备曝光……”
在实验有条不紊的推进中，终于到了曝光环节。
每次进入曝光环节，那短短的十秒钟，都让吴利鸿感觉像一个世纪那么长……
而在曝光的过程中，加装在工件台的的测量仪器也在同时进行疯狂的数据收集。
“曝光结束，进入后烘环节，曝光数据正在分析中……”
“曝光过程总产气量……”汇报结果的研究员停顿了一下，然后用颤抖的语气念出了数值，“289立方纳米！”
哗——！
听到这个结果，整个实验室都顿时安静了下来，随后便是阵阵惊呼声。
“竟然真是光致产酸剂BR-侧键的问题！”